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《PARADISEWORLD-2》 今後の予定

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MEMS シミュレータへの展開

• 半導体技術を用いてMEMSデバイスを作成することができるようになります

	BOSCHプロセス

図 くし歯アクチュエータのマスク(左) と 形成デバイスの断面図(右)

くし歯アクチュエータのマスクを元にして、 BOSCHプロセスの技術によって、 くし歯形状を作成することができます。

• 空中に浮いたデバイスも作成可能になります

	反転操作 接合操作

図 ミラーのマスク(左) と 形成デバイスの鳥瞰図(右)

MEMSデバイスの作成では、空中に浮いた形状が必要になります。
空中に浮いた形状を作成するには、反転操作(デバイスをひっくり返す操作)と 接合操作(異なる二つのデバイスを接合する操作)を用います。

デバイスシミュレータとの連携

• PW2で作成した半導体モデルに不純物を注入した場合の、電流-電圧特性を解析します。
• 不純物分布には、ガウス分布、相補誤差関数分布、均一濃度分布を考慮することができます。
• 直交メッシュによるモデリングおよびBiCGSTAB法による計算により、高速・高精度にシミュレーションを行います。

プロセスシミュレータ

デバイスシミュレータ

電流-電圧特性

リソグラフィーの導入

マスクの光効果を正確にシミュレート

図 マスク(左) と 光強度のシミュレーション(右)

• Hopkins'formulaによる光強度計算が可能になります
• フォトレジストの拡散距離を考慮します

お問い合わせ・資料のご請求は，

（株）数理システム《パラダイスワールド》担当

E-mail	pw-info@msi.co.jp
TEL.	03-3358-6681
FAX.	03-3358-1727

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