PARADISEWORLD-2 対応プロセス例
リソグラフィモデル
レジスト膜塗布
- 対象物質表面に粘性膜を塗布するモデル
- スピンコート時のレジスト膜の粘性も考慮可能
露光・現像
- マスク通りのレジストパターンを作成する
- 収差、位相シフタ、各種照明、瞳フィルタなどの効果を取り入れた
リソグラフィシミュレーション による正確な露光形状の計算に対応予定
ベーク
レジスト除去
デポジションモデル
CVD
- CVDによる膜成長モデル
- 表面から等方的に膜が成長
PVD
- PVDによる膜成長モデル
- 飛来する堆積物の方向性を考慮して膜が成長
酸化
- 酸素雰囲気中での酸化処理による膜成長モデル
- 酸化による体積膨張も考慮
- 膜厚計算にはDeal&Groveの式を使用
エッチングモデル
ウェットエッチング
- 対象物質の表面から等方的にエッチングが進行するモデル
等方性RIE
異方性RIE、イオンビームエッチング
異方性スパッタリングエッチング
- 対象の周辺の物質もエッチングされるスパッタリングモデル
その他の工程
化合物生成
- 対象の物質同士を反応させ化合物化する(シリサイド化など)
- 化合物化による体積の変化も考慮可能
不純物注入、不純物拡散
研磨(CMP)