リソグラフィシミュレーション
露光、PEB、現像といったリソグラフィ工程を物理モデルに基づいて再現し、フォトレジストの最終形状を高精度に予測するシミュレーション技術を紹介しています。多数の設計パラメータを効率的に検討でき、半導体デバイスの微細加工条件の最適化や、後続プロセスまで含めた設計・検証の高度化に役立ちます。半導体形状シミュレータとの連携による一貫解析にも対応します。資料ダウンロード-->お問い合わせ
半導体形状シミュレーション
半導体製造工程をコンピュータ上で再現し、最終的な3次元形状や電気特性を高精度に予測するシミュレーション技術を紹介します。複雑化する半導体デバイス設計に対し、プロセス設計、レイアウト設計、不良発生時の問題点の検出を支援し、開発効率の向上と設計・検証の高度化に貢献します。高速・高精度な形状計算と可視化により設計者間のコミュニケーションも促進します。資料ダウンロード-->お問い合わせ
都市計画・社会システム
交通計画、人流、感染症シミュレーション、施設配置など、社会への影響が大きく実地検証が難しいテーマに対し、シミュレーションや数理最適化で施策検討を支援します。仮説立案、効果検証、施策の具体化を通じて、都市計画や社会システム設計における合意形成と意思決定の高度化、リスク低減に貢献します。実験や検証が大規模になりがちな課題に対して、低コストでクイックな検証が可能です。資料ダウンロードお問い合わせ